[实用新型]去除玻璃基板边缘光刻胶的装置有效

专利信息
申请号: 200820079917.5 申请日: 2008-04-11
公开(公告)号: CN201188173Y 公开(公告)日: 2009-01-28
发明(设计)人: 苏顺康;黄福林 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/26 分类号: G03F7/26;B08B11/04;B08B3/04
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 代理人: 申健
地址: 100176北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 去除 玻璃 边缘 光刻 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及液晶显示技术领域,尤其涉及阵列基板边缘光刻胶的去除装置。

背景技术

目前,薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD(Thin Film Transistor-LiquidCrystal Display)在生产中大体分为阵列、成盒、模块三大工序,而在阵列工序中又大体分为沉积、光刻、蚀刻三大工艺。其中,阵列工序中有一道工序是在玻璃上涂光刻胶(photoresist,PR);PR胶是一种感光后,化学性质会改变的红色粘稠物。玻璃基板高速旋转,将PR胶均匀的涂在玻璃基板上,旋转完毕后,PR胶会均匀分布在整张玻璃表面,一般在玻璃基板的边缘也会涂有PR胶。

为了避免玻璃边缘的PR胶滴落对后续工程造成污染,设置了清洗喷嘴,用于将涂有PR胶的玻璃基板边缘进行清洁。

图1、图2所示,清洗喷嘴11的形状呈鸭嘴形,玻璃基板13处于清洗喷嘴11上下两内壁16之间;清洗喷嘴11的内部置有清洗液通道14、氮气通道15以及17内部的负压通道18,清洗液通道14和氮气通道15均为并排的较细的管道;清洗液通道14与玻璃基板13垂直,氮气通道15与玻璃基板13成一定的角度,所述的负压通道18为真空通道。

所述清洗喷嘴11的清洗原理如下:清洗液通过并排的较细的清洗液通道14垂直喷向玻璃基板13的上下表面,清洗液是一种能够溶解PR胶的化学液体;同时氮气通过并排的较细的氮气管道15以一定角度吹向玻璃基板13上下表面。清洗液将玻璃基板13边缘PR胶溶解掉后,氮气将溶解液吹向清洗喷嘴11底部,同时负压通道18通过真空将溶解液抽走。

在上述的现有技术中,利用清洗液溶解玻璃基板边缘的PR胶。由于清洗液是以喷射的方式冲洗PR胶,因此在清洗液喷射向玻璃基板的过程中,容易发生清洗液的溅射。如果溅射出来的清洗液小液滴落在玻璃基板的TFT图案区域,会引起产品不良,虽然有氮气的吹力,但却不能有效解决清洗液溅射的问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种去除玻璃基板边缘光刻胶的装置,能够防止清洗液溅射而引起产品缺陷的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案如下:

一种去除玻璃基板边缘光刻胶的装置,包括清洗喷嘴,所述清洗喷嘴的内顶面和内底面上分别对应设置有柔性清洗块;

所述柔性清洗块上设有清洗液通孔,所述清洗液通孔与所述清洗喷嘴内的清洗液通道相连通;

所述柔性清洗块上还设有负压孔,所述负压孔与所述清洗喷嘴内的负压通道相连通。

所述柔性清洗块为具有弹性的多孔状布。

所述柔性清洗块上的清洗液通孔为均匀分布的若干微孔。

所述柔性清洗块上的负压孔布置在所述清洗液通孔周围。

所述清洗喷嘴内的负压通道为真空管道。

所述清洗喷嘴呈鸭嘴型。

本实用新型所述的去除玻璃基板边缘光刻胶的装置,柔性清洗块中置有清洗液通道,通过柔性清洗块将清洗液涂到玻璃基板边缘,溶解玻璃基板边缘的光刻胶,同时通过负压通道将溶解液进行去除,从而避免了清洗液溅射到玻璃基板的TFT图案区域,提高了产品的质量。

附图说明

图1为现有技术去除玻璃基板边缘光刻胶的装置的纵剖面结构示意图;

图2为现有技术去除玻璃基板边缘光刻胶的装置的内底面俯视图;

图3为本实用新型去除玻璃基板边缘光刻胶的装置的纵剖面结构示意图;

图4为本实用新型去除玻璃基板边缘光刻胶的装置中柔性清洗块的结构示意图;

图5为本实用新型去除玻璃基板边缘光刻胶的装置的一实施例结构示意图。

具体实施方式

本实用新型提供了一种去除玻璃基板边缘光刻胶的装置,能够有效的解决由于清洗液溅射而引起的产品不良的问题。

如图3、图4所示,本实用新型所述的装置包括清洗喷嘴21,清洗喷嘴21的形状呈鸭嘴形,清洗喷嘴21的内顶面和内底面26上分别对应设置有柔性清洗块28;所述柔性清洗块28为具有弹性的多孔状布,柔性清洗块28上设有清洗液通孔29,所述清洗液通孔29为均匀分布的若干微孔;清洗液通孔29与所述清洗喷嘴21内的清洗液通道24相连通;柔性清洗块28上还设有负压孔20,负压孔20布置在所述清洗液通孔29周围,负压孔20与27内的负压通道相连通,所述负压通道为真空管道。

所述清洗液通孔与负压孔的排列方式不固定,只要是能有效的除去PR,且溶解液能顺利地排出的排列方式都在本实用新型的保护范围内。

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