[发明专利]液晶显示器件及其制造方法

权利要求书

1.一种用于制造液晶显示器的方法，包括：

提供分割成像素部以及数据和栅焊盘部的第一基板；

通过第一掩模工序在所述第一基板的像素部形成栅极和栅线；

在所述第一基板上形成绝缘层；

通过第二掩模工序在所述第一基板的所述像素部形成有源图案和源极/漏极，并形成与所述栅线相交的数据线以限定像素区域；

在所述第一基板上形成钝化层；

通过第三掩模工序在所述钝化层上形成具有第一厚度的第一到第三感光膜图案和具有第二厚度的第四感光膜图案；

通过使用第一到第四感光膜图案作为掩模有选择地去除所述钝化层的一部分以形成暴露出一部分漏极的第一接触孔；

去除所述第四感光膜图案，同时形成具有第三厚度的第五到第七感光膜图案；

通过使用所述第五到第七感光膜图案作为掩模，去除所述钝化层的厚度的一部分；

在所述第一基板的整个表面上形成透明导电膜；

通过对所述第一基板进行热处理，在所述导电膜上形成裂缝；

去除第三到第五感光膜图案，同时去除所述第三到第五感光膜图案上的所述透明导电膜，形成通过所述第一接触孔与所述漏极电连接的像素电极；以及

将所述第一基板与第二基板进行粘接。

2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

通过所述第一掩模工序在所述第一基板的栅焊盘部形成栅焊盘线。

3.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

通过所述第二掩模工序在所述第一基板的数据焊盘部形成数据焊盘线。

4.如权利要求3所述的方法，进一步包括：

通过使用感光膜图案作为掩模有选择地去除所述钝化层的一部分，形成将所述数据焊盘线的一部分暴露在外的第二接触孔。 

5.如权利要求2所述的方法，进一步包括：

通过使用感光膜图案作为掩模有选择地去除所述钝化层和所述栅绝缘层的一部分，以形成将所述栅焊盘线的一部分暴露在外的第三接触孔。

6.如权利要求1所述的方法，其中，所述钝化层包括具有相对较高密度的第一钝化层和具有相对较低密度的第二钝化层。

7.如权利要求1所述的方法，其中，在100℃到180℃下执行热处理。

8.如权利要求1所述的方法，其中，通过所述热处理，在第三到第五感光膜图案内形成一定的空气隙，所述第三到第五感光膜图案的体积发生膨胀，由于空气隙导致所述第三导电膜剥离，所述第三导电膜的内压增大，从而在所述第三导电膜上形成裂缝。

9.一种液晶显示器件，包括：

位于第一基板上的栅极和栅线；

位于所述第一基板上的栅绝缘层；

位于所述栅绝缘层上的有源图案和源极/漏极，以及与栅线交叉的数据线，用以限定像素区域；

位于所述第一基板上的钝化层，所述钝化层包括具有相对较高密度的第一钝化层和具有相对较低密度的第二钝化层；

位于所述钝化层处的接触孔，将所述漏极的一部分暴露在外；

通过所述接触孔与所述漏极电连接的像素电极；以及

粘接到所述第一基板的第二基板，

其中，在所述第二钝化层被去除的状态下，所述栅绝缘层和所述第一钝化层的一部分厚度得到保留，在像素区域处像素电极位于其上。