[发明专利]具有狭缝阀补偿的扩散板有效
| 申请号: | 200810099760.7 | 申请日: | 2008-06-04 |
| 公开(公告)号: | CN101348902A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
| 发明(设计)人: | 崔寿永;约翰·M·怀特 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 狭缝 补偿 扩散 | ||
1.一种气体分配板组件,包括:
扩散板元件,其具有上游侧、下游侧、与处理腔室中的狭缝阀邻近设置的 第一边缘、中心和第二边缘;以及
通过所述上游侧和下游侧之间的多个气体通道,该多个气体通道包括:
第一气体通道,其具有具有第一中空阴极腔容积的第一中空阴极腔, 所述第一中空阴极腔邻近所述扩散板元件的所述第一边缘设置;
第二气体通道,其具有具有第二中空阴极腔容积的第二中空阴极腔, 所述第二中空阴极腔邻近所述扩散板元件的所述中心设置;以及
第三气体通道,其具有具有第三中空阴极腔容积的第三中空阴极腔, 所述第三中空阴极腔邻近所述第二边缘设置,其中所述第一中空阴极腔容积大 于所述第二中空阴极腔容积并且小于所述第三中空阴极腔容积。
2.根据权利要求1所述的组件,其特征在于,每个气体通道具有:
节流孔,其具有足以促进基本均匀背压的长度和直径,该节流孔与中空阴 极腔耦接。
3.根据权利要求2所述的组件,其特征在于,每个节流孔具有基本相同 的长度和直径。
4.根据权利要求1所述的组件,其特征在于,所述扩散板元件具有具有 第四中空阴极腔的至少一个角落部分,以及其中所述第四中空阴极腔的容积小 于所述第三中空阴极腔容积。
5.根据权利要求1所述的组件,其特征在于,所述下游侧具有实质上凹 形形状。
6.一种等离子体处理腔室,包括:
具有多个壁的腔室主体;
设置在所述多个壁的至少其中之一中的一个或多个狭缝阀;以及
扩散板,该扩散板包括:
扩散板元件,其具有上游侧、下游侧、与所述一个或多个狭缝阀的狭 缝阀邻近设置的第一边缘、中心和第二边缘;以及
通过所述上游侧和下游侧之间的多个气体通道,该多个气体通道包 括:
第一气体通道,其具有具有第一中空阴极腔容积的第一中空阴极 腔,所述第一中空阴极腔邻近所述扩散板元件的第一边缘设置;
第二气体通道,其具有具有第二中空阴极腔容积的第二中空阴极 腔,所述第二中空阴极腔邻近所述扩散板元件的中心设置;以及
第三气体通道,其具有具有第三中空阴极腔容积的第三中空阴极 腔,所述第三中空阴极腔邻近所述第二边缘设置,其中所述第一中空阴极腔容 积大于所述第二中空阴极腔容积并且小于所述第三中空阴极腔容积。
7.根据权利要求6所述的腔室,其特征在于,每个气体通道具有:
节流孔,其具有足以促进基本均匀背压的长度和直径,该节流孔与中空阴 极腔耦接。
8.根据权利要求7所述的腔室,其特征在于,每个节流孔具有基本相同 的长度和直径。
9.根据权利要求6所述的腔室,其特征在于,所述扩散板元件具有具有 第四中空阴极腔的至少一个角落部分,并且其中该第四中空阴极腔的容积小于 所述第三中空阴极腔容积。
10.根据权利要求6所述的腔室,其特征在于,所述下游侧具有实质上凹 形的形状。
11.一种等离子体处理方法,包括:
通过扩散板流动处理气体,该扩散板具有贯穿其中设置的多个气体通道, 并配置为使得邻近狭缝阀设置的第一气体通道具有大于邻近所述扩散板的中 心设置的第二气体通道的第二中空阴极腔容积的第一中空阴极腔容积,并且所 述第一中空阴极腔容积小于邻近所述扩散板的边缘设置的第三气体通道的第 三中空阴极腔容积;
偏置所述扩散板;以及
在所述气体通道内激发等离子体。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





