[实用新型]环抛机校正盘减荷装置

说明书

所属技术领域

本实用新型涉及光学元件加工设备，尤其是环行抛光机的辅助设备，属于光学机械技术领域。

背景技术

环抛是加工平面光学元件的主要工序，环抛机校正盘的面形质量直接影响着沥青抛光盘的质量，从而影响工件的加工质量。由于校正盘直径大、重量重，以及其自身的压力分布的均匀性、磨擦发热等因素，很难使校正盘的面形长时间保持良好的平整度，不得不对校正盘进行经常的调整和监测，从而使加工效率非常低。解决的办法之一是对校正盘进行适当减荷，目前一般采用固着式减荷置来解决这一问题，这种方式的结构是减荷装置和校正盘连接为一体，存在着校正盘清洗不方便、不能翻转检测的缺点，并且装置不工作时须长时间悬吊，存在安全隐患。

实用新型内容

为了克服现有的固着式校正盘减荷装置的不足，本实用新型提供一种真空吸盘式环抛机校正盘减荷装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：环抛机校正盘减荷装置，包括真空系统、回转系统、提升系统和自动控制系统；真空系统包括真空吸盘3、吸盘分管4-1、吸盘总管4-2、旋转接头4-3、真空总管4和真空发生器11；回转系统包括回转轴5、回转轴提升支架6、缓冲器7；提升系统包括气缸1、气缸支架2、比例阀12和压力显示器14；自动控制系统包括人机界面15及控制电路；气缸1固定在气缸支架2上，气缸1经缓冲器7与回转轴提升支架6相连；回转轴提升支架6经连接轴7-2与回转轴5相连，回转轴5再与吸盘爪3-1相连，吸盘爪3-1与真空吸盘3相连；提升系统的气路连接结构为：比例阀12的进气口16接压缩空气气源21，出气口20接气缸1；真空系统的气路连接顺序依次为：吸盘3、吸盘分管4-1、吸盘总管4-2、旋转接头4-3、真空总管4到真空发生器11，真空发生器11的进气口18接压缩空气气源21。

真空吸盘3的上升是由汽缸活塞的向上运动实现的，气缸1采用单向进气方式，当按上升按纽时，压缩空气进入气缸1的下腔，推动活塞向上运动，由与之连接的回转轴提升支架6、回转轴5，带动真空吸盘3平稳上升，与校正盘9分离；当按下降按纽时，气缸1下腔的压缩空气缓慢释放，压力变小，真空吸盘3在系统的重力作用下平稳下降，落到校正盘9的表面。压力的大小由调压旋钮13进行进行调整，由压力显示屏14显示其数值。

真空吸盘3下降到校正盘9表面设定位置后，开启真空发生器11，由人机界面15键盘上的按钮调整显示屏上的参数，设定提升力的数值，由比例阀12实现对真空发生器11的压力(真空度)控制，达到设定的真空度(提升力数值)时，真空吸盘3将校正盘9吸牢，真空系统封闭，以此实现对校正盘9的减压提升。提升力的数值在0～100％范围连续可调。

本实用新型的有益效果是，采用真空吸附方式实现了对环抛机校正盘的减荷提升，使修磨好的校正盘面形能长时间地保持，大大提高了加工效率。校正盘可单独清洗，并可方便地翻转进行面形检测。本装置不工作时可将校正盘离线存放，克服了固着式结构存在的缺点。

附图说明

图1是本实用新型总体结构示意图；

图2是本实用新型吸盘系统提升时的状态示意图；

图3是图2的A-A剖视图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

如图1-3，环抛机校正盘减荷装置，包括真空系统、回转系统、提升系统和自动控制系统；真空系统包括真空吸盘3、吸盘分管4-1、吸盘总管4-2、旋转接头4-3、真空总管4和真空发生器11；回转系统包括回转轴5、回转轴提升支架6、缓冲器7；提升系统包括气缸1、气缸支架2、比例阀12和压力显示器14；自动控制系统包括人机界面15及控制电路；气缸1固定在气缸支架2上，气缸1经缓冲器7与回转轴提升支架6相连；回转轴提升支架6经连接轴7-2与回转轴5相连，回转轴5再与吸盘爪3-1相连，吸盘爪3-1与真空吸盘3相连；提升系统的气路连接结构为：比例阀12的进气口16接压缩空气气源21，出气口20接气缸1；真空系统的气路连接顺序依次为：吸盘3、吸盘分管4-1、吸盘总管4-2、旋转接头4-3、真空总管4到真空发生器11，真空发生器11的进气口18接压缩空气气源21。

回转轴5与缓冲器7的连接轴7-2套接，可使回转轴5随校正盘9的转动而转动，确保校正盘9在加工过程中自由转动。

旋转接头4-3连接吸盘总管4-2和真空总管4，可以使真空总管不随吸盘系统转动，保证管路系统正常工作。