[发明专利]液浸显微镜装置

说明书

技术领域

本发明涉及进行基板的液浸观察的液浸显微镜装置。

背景技术

为了以高分辨能力观察在基板(例如半导体晶片或液晶基板等)上形成的电路图形的缺陷或异物等，提出了使用液浸类的物镜、将该物镜的前端与基板之间用水等液体充满、根据液体的折射率(＞1)而使物镜的开口数变大的技术(例如参照专利文献1)。此外，还提出了在基板的液浸观察后通过有机溶剂或空气刀等使基板干燥、使干燥后的基板回到盒中的技术。

专利文献1：日本特开2005-83800号公报

但是，在上述装置中，氧化膜或印痕等附着在干燥后的基板的表面(与液体接触的区域)中的可能性较高，这些脏污有时会成为缺陷而显著地损害基板的品质。由于品质降低的基板不能成为有用的产品，所以不得不丢弃。这样，在上述装置中，不能非破坏地进行基板的液浸观察(即进行非破坏检查)。同样的问题并不限于在局部液浸的状态下观察基板的情况，在整面液浸的状态下观察的情况下也同样会发生。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够不损害基板的品质而非破坏地进行基板的液浸观察的液浸显微镜装置。

本发明的液浸显微镜装置具备：支承机构，支承观察对象的基板；液浸类的物镜；第1供给机构，将超纯水作为观察用的液体供给到上述物镜的前端与上述基板之间；第1除去机构，在上述基板的观察后，将上述观察用的液体除去；第2供给机构，将与由上述第1除去机构除去的上述观察用的液体不同的清洗用的液体，供给到上述基板中的与上述观察用的液体接触的区域中；第2除去机构，在上述基板的清洗后，将上述清洗用的液体除去。

此外，优选的是，上述第2供给机构为了生成上述清洗用的液体，从上述超纯水的循环路径取入脱气后的超纯水，或者从上述循环路径取入脱气前的超纯水而进行脱气，通过得到的脱气后的超纯水生成一种上述清洗用的液体，供给到上述基板的上述区域中；上述一种清洗用的液体是在脱气后的超纯水中将臭氧溶解到浓度1ppm以上的液体、在脱气后的超纯水中将氢溶解到浓度0.6ppm以上的液体、和在脱气后的超纯水中溶解了氮的液体的某个。

此外，优选的是，上述第2供给机构为了生成上述清洗用的液体，从上述超纯水的循环路径取入脱气后的超纯水，或者从上述循环路径取入脱气前的超纯水而进行脱气，通过得到的脱气后的超纯水生成两种以上上述清洗用的液体，依次供给到上述基板的上述区域中；上述两种以上清洗用的液体是在脱气后的超纯水中将臭氧溶解到浓度1ppm以上的液体、在脱气后的超纯水中将氢溶解到浓度0.6ppm以上的液体、和在脱气后的超纯水中溶解了氮的液体的某个。

此外，优选的是，具备当上述第2供给机构将溶解了上述氢的液体作为上述清洗用的液体供给时朝向该溶解了氢的液体发出超声波的振荡机构。

根据本发明的液浸显微镜装置，能够不损害基板的品质而非破坏地进行基板的液浸观察。

附图说明

图1是液浸显微镜装置10的整体结构图。

图2是说明物镜14的周边结构的放大图。

图3是说明超纯水制造装置(31～36)和循环路径26的图。

具体实施方式

以下，利用附图详细地说明本发明的实施方式。

在本实施方式的液浸显微镜装置10中，如图1所示，设有对作为观察对象的基板10A进行支承的台部(11～13)、液浸类的物镜14、对观察用的液体进行供给的机构(15、16)、对清洗用的液体进行供给的机构(17～19)、将这些液体除去的机构(20～22)、和控制各部的控制部23。

此外，在液浸显微镜装置10中，虽然图示省略，但还设有自动输送照明光学系统或观察光学系统、基板10A的机构、和TTL方式的自动对焦机构等。

基板10A是半导体晶片或液晶基板等。液浸显微镜装置10为在半导体电路元件或液晶显示元件等的制造工序中进行形成在基板10A上的电路图形的缺陷及异物等进行液浸观察(外观检查)的装置。电路图形例如是抗蚀图形。

台部(11～13)由试料台11、Z台12和XY台13构成。基板10A例如从显影装置被输送而载置在试料台11的上表面，例如通过真空吸附被固定地支承。试料台11能够在Z台12的作用下沿铅直方向移动，能够在XY台13的作用下沿水平方向移动。

Z台12的铅直方向的移动在基板10A的对焦时进行。对焦动作是控制部23利用自动对焦机构进行的。XY台13的水平方向的移动是在将基板10A的预先设定的观察点定位在物镜14的视野内时进行的。XY台13的基础部件固定在液浸显微镜装置10的主体(镜基24)的下部。