[发明专利]用于在清洁模块中垂直转移半导体基材的方法及设备

权利要求书

1.一种基材处理器，其至少包含：

一轨道；

一第一载件及一第二载件，均耦接至该轨道；

一第一机器人，耦接至该第一载件并具有至少两抓持部；以及

一第二机器人，耦接至该第二载件且具有至少一抓持部，其中该第一载件可沿该轨道相对于第二载件作独立定位。

2.如权利要求1所述的基材处理器，其中该第一机器人的至少两抓持部是经配置以传送一基材于至少一输入模块及一第一清洁模块之间，或于至少一第一清洁模块及一第二清洁模块之间。

3.如权利要求1所述的基材处理器，其中该第二机器人的至少一抓持部是经配置以传送一基材于至少一清洁模块及一干燥器之间。

4.如权利要求1所述的基材处理器，其中该第一及第二机器人是经配置以沿该轨道横向移动，以利于进出数个模块。

5.如权利要求4所述的基材处理器，其中所述模块的至少一个为清洁模块。

6.如权利要求4所述的基材处理器，其中该载件是滑动地安装于该轨道上，并由一致动器沿该轨道所界定的一第一移动轴作水平驱动。

7.如权利要求6所述的基材处理器，其中该致动器包括一耦接至一传送带的马达，以沿该第一移动轴推进该载件来定位该第一机器人。

8.如权利要求7所述的基材处理器，其中该传送带是以一盖件封围。

9.如权利要求7所述的基材处理器，其中该第一机器人的至少两抓持部是沿着一第二及第三移动轴独立致动。

10.如权利要求9所述的基材处理器，其中该第二及第三移动轴方位是垂直该第一轴。

11.如权利要求1所述的基材处理器，其中该第一及第二机器人适于由该致动器沿第一移动轴作水平移动。

12.一种基材清洁系统，其至少包含：

数个清洁模块；

一第一垂直定位的机器人，设于数个清洁模块上方；以及

一第二垂直定位的机器人，设于数个清洁模块上方，其中该第一及第二机器人可选择性定位于数个清洁模块的各者的上方，且其中该第一及第二机器人可垂直移动以与数个清洁模块的各者(不受其它清洁模块的影响)作接口联系。

13.如权利要求12所述的基材清洁系统，其中该第一机器人更包括至少两抓持部，且该第二机器人更包括至少一抓持部。

14.如权利要求12所述的基材清洁系统，其更包括：

数个横向定位的载件组件，与第一及第二机器人耦接，以及一用于定位该载件组件的马达。

15.如权利要求12所述的基材清洁系统，其中该第一机器人的至少两抓持部是经配置以传送来自至少一输入模块及一第一清洁模块的基材，或将来自第一清洁模块的基材传送至一第二清洁模块。

16.如权利要求13所述的基材清洁系统，其中该第二机器人的至少一抓持部是经配置以自至少一清洁模块传送一基材至一干燥器，或自该干燥器传送该基材至一输出模块。

17.如权利要求16所述的基材清洁系统，其中该干燥器适于由偏斜该基材至一水平位置并接着由一接口机器人将其上移以传送至一卡匣来协助基材传送。

18.如权利要求12所述的基材清洁系统，其中该第一及第二机器人是经配置以沿该轨道横向移动，以利进出数个模块。

19.如权利要求12所述的基材清洁系统，其中所述模块的至少一个为清洁模块。

20.一种用于清洁一基材的方法，其至少包含：

沿一第一移动轴将一第一及一第二机器人定位于数个清洁模块之上；

自一输入模块取得一基材，并由该第一机器人将该基材置放于一第一清洁模块中；

自该第一清洁模块取得该基材，并由该第一机器人将该基材置放于该第二清洁模块中；

自该第二清洁模块取得该基材，并由该第一机器人将该基材置于一第三清洁模块中；

自该第三清洁模块取得该基材，并由该第二机器人将该基材置于一干燥器中；以及

自该干燥器取得该基材，并由该第二机器人将该基材置于一输出模块中。