[发明专利]电路板制造方法有效

专利信息
申请号: 200610115599.9 申请日: 2006-08-18
公开(公告)号: CN101127310A 公开(公告)日: 2008-02-20
发明(设计)人: 曾奇照;吕明龙 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H05K3/02
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所 代理人: 翟羽
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 电路板 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种电路板制造方法,包括下列步骤:

提供一基板,该基板具有复数个贯穿孔;

无电电镀一第一金属层于该基板表面及该等贯穿孔表面;

电镀一第二金属层于该第一金属层之上;以及

图案化该第二金属层及该第一金属层,以形成一图案化线路层;

其特征在于:该制造方法在图案化这一步骤之后,进一步包括电镀一第三金属层于该图案化线路层之上这一步骤。

2.如权利要求1所述的电路板制造方法,其特征在于该提供一基板的步骤包括:

形成一铜层于该基板表面;以及

形成该等贯穿孔贯穿该基板及该铜层。

3.如权利要求2所述的电路板制造方法,其特征在于形成该等贯穿孔的方法为机械钻孔或雷射钻孔。

4.如权利要求1所述的电路板制造方法,其特征在于该基板具有至少一内层线路层。

5.如权利要求1所述的电路板制造方法,其特征在于该电镀第二金属层的步骤包括:

以该第一金属层作为一电极端,电镀该第二金属层于该第一金属层之上。

6.如权利要求1所述的电路板制造方法,其特征在于该电镀第三金属层的步骤包括:

以该图案化线路层为一电极端,  电镀该第三金属层于该图案化金属层之上。

7.如权利要求1所述的电路板制造方法,其特征在于该形成图案化线路层的步骤包括:

形成一光阻层于该第二金属层之上;

图案化该光阻层;以及

以图案化的该光阻层为屏蔽,蚀刻该第一金属层及该第二金属层,以形成该图案化线路层。

8.如权利要求1所述的电路板制造方法,其特征在于该图案化线路层及该第三金属层的材料为铜或镍金合金。

9.一种电路板制造方法,包括下列步骤:

提供一基板,该基板具有复数个贯穿孔;

无电电镀一电极端层于该基板表面以及该等贯穿孔表面;

电镀一线路层于该电极端层上;以及

图案化该线路层及该电极端层;

其特征在于:该制造方法利用一第一电镀步骤以及一第二电镀步骤形成该线路层,并且该图案化步骤是在第一电镀步骤之后,第二电镀步骤之前进行。

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